摘要
在半導體工業(yè)中，晶片檢測系統(tǒng)被用來檢測晶片上的缺陷并找到它們的位置。為了確保微結(jié)構(gòu)所需的圖像分辨率，檢測系統(tǒng)通常使用高NA物鏡，并且工作在UV波長范圍內(nèi)。作為例子，我們建立了包括高NA聚焦和光與微結(jié)構(gòu)相互作用的完整晶片檢測系統(tǒng)的模型，并演示了成像過程。
任務描述
通過在堆棧中定義適當形狀的表面和介質(zhì)來模擬諸如在晶片上使用的周期性結(jié)構(gòu)的柵格結(jié)構(gòu)。然后，該堆棧可以導入到各種不同的組件中，具體取決于預期用途。在這種情況下，我們將堆棧加載到一般光學設置中的一個光柵組件中，以便模擬整個系統(tǒng)。有關詳細信息，請參閱：用于通用光學系統(tǒng)的光柵元件
微結(jié)構(gòu)晶片的角度響應
該光柵組件使用傅里葉模態(tài)法(FMM)，也稱為嚴格耦合波分析(RCWA)，其運作在k域中。當入射大NA光束時，需要考慮在k域中有足夠數(shù)量的采樣點來解決角度敏感效應。在光柵組件的求解器區(qū)域中，用戶可以輕松地調(diào)整此參數(shù)，以確保快速而準確的模擬。
大NA物鏡
Lens System Component允許輕松定義由光滑表面和均勻、各向同性介質(zhì)的交替序列組成的組件。在界面和材料方面，可以從內(nèi)置目錄中選擇現(xiàn)成的條目，也可以定制自己的條目，以實現(xiàn)最大的靈活性。
通用探測器和探測器插件
通用探測器可以評估入射場，并通過所謂的附加組件計算各種物理量。作為結(jié)果，所提供的附加組件之一提供了空間域中的輻照度。有關詳細信息，請參閱：通用探測器
非序列追跡
將通道配置模式切換設置為手動配置后，用戶可以為系統(tǒng)中的每個表面指定要為模擬打開哪些通道。當運行模擬時，將執(zhí)行活動光路的初步分析(通過所謂的光路查找器)。然后，引擎將沿著這些光路追跡磁場，直到系統(tǒng)中的探測器。
用于非序列追跡的通道設置
總結(jié)-組件
系統(tǒng)印象
場追跡結(jié)果
結(jié)果的非對稱
光柵的非對稱性也導致干涉中的輕微不對稱性。可以在結(jié)果中識別光柵是否鏡像，結(jié)果也將顯示為鏡像。
VirtualLab Fusion技術(shù)
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